頭盔定點保護區測試設備(bèi)适用於(yú)：（1）用於(yú)頭盔上畫測試點和測試線；（2）用於(yú)不同的測試标準的畫線；（3）頭盔做研發時用於(yú)界定頭盔的上下視野和左右視野。